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双级反渗入体系回用硅片洗濯废水

   最近几年来,硅片财产成长敏捷。硅片是制作晶体管和集成电路的原材料。换句话而言,便是硅片是芯片制作的原材料。凡是是晶硅的切片,经由进程光刻和离子注入的方式制成各类半导体器件,是半导体财产中首要的原材料。跟着硅片财产的兴旺成长,情况净化题目随之而来,发生了大批的废水。出产废水首要来自多晶硅锭切片进程的洗濯关头。多晶硅锭经混酸外表处置后,在洗濯进程中发生含酸废水。因为外表处置是硝酸和氢氟酸的夹杂酸,洗濯废水中的首要净化物是pH、氟化物和钙盐。

  接纳双级反渗入体系对洗濯废水停止深度处置。经由进程预处置下降钙离子和氟离子含量后,可知足超滤体系进水请求。废水进入超滤体系,超滤产水进入一级反渗入处置体系,产水进入产水箱,浓水进入二级反渗入体系进一步收受接管。

  膜法硅片洗濯废水处置工艺:

  硅片洗濯废水→预处置→超滤→一级反渗入→二级反渗入→产水

  两级反渗入体系法回用硅片洗濯废水中醋酸的进程是纯物理常温操纵工艺,无化学反映,能耗低。整套反渗入体系可设想在线再生洗濯排污装配,下降休息强度和出产本钱,进步出产效力。反渗入体系总收受接管率节制在75%摆布,完成有用收受接管。膜元件添补面积大,体系占空中积小,便于手艺革新、扩建或新建名目,下降了出产本钱和投资。

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